購(gòu)買(mǎi)紫外臭氧清洗機(jī)應(yīng)考慮這三大方面
紫外臭氧清洗機(jī)是數(shù)字控制的臺(tái)式清洗設(shè)備，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設(shè)備配備一個(gè)帶反射罩的高強(qiáng)度UV格柵燈盤(pán),和可調(diào)節(jié)高度的樣品臺(tái)，用于優(yōu)化樣品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系統(tǒng)具有進(jìn)出氣接口。該系統(tǒng)由一個(gè)方便的預(yù)設(shè)置控制器控制，非常容易操作。能滿足有機(jī)分子去除和其他眾多的應(yīng)用?？梢灾苯釉诳諝庵胁僮鳎蚴峭ㄟ^(guò)其中一個(gè)進(jìn)氣口通入氧氣來(lái)增加臭氧產(chǎn)生。可編程數(shù)字控制器可以控制系統(tǒng)進(jìn)程，來(lái)確保時(shí)間和優(yōu)化清洗參數(shù)。常用于掃描探測(cè)顯微鏡的樣品應(yīng)用，我們的設(shè)備能用于清洗原子力顯微鏡探針，掃描探針顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)和表面上常規(guī)的油漬層和殘留的無(wú)機(jī)材料，也能用來(lái)改變物體表面的疏水性，有助于部件和表面的化學(xué)改性，經(jīng)過(guò)氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過(guò)程中保持探針的幾何形狀，削尖的探針有利于提高側(cè)向分辨率。
紫外臭氧清洗機(jī)的應(yīng)用范圍十分廣泛，目前在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國(guó)工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
工作原理：
通過(guò)產(chǎn)生185nm和254nm高強(qiáng)度UV光分解有機(jī)分子（污染物）。185nm的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時(shí)激發(fā)表面的有機(jī)分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時(shí)間短并且同時(shí)也被254nm光分解，樣品臺(tái)可以調(diào)節(jié)樣品到燈管的距離來(lái)優(yōu)化性能。PSD和PSDP分解有機(jī)污染物，然后形成CO2和H2O蒸氣，同時(shí)也將臭氧分子轉(zhuǎn)變成氧分子。
在選擇紫外臭氧清洗機(jī)時(shí)，應(yīng)遵循以下原則：
1.生產(chǎn)率高和產(chǎn)品質(zhì)量好的原則。生產(chǎn)率的高低直接反映生產(chǎn)線的生產(chǎn)能力。所以生產(chǎn)率越高，其產(chǎn)生的經(jīng)濟(jì)效益越好。為了提高產(chǎn)品質(zhì)量，應(yīng)選擇設(shè)備精度高、自動(dòng)化程度也高的清洗機(jī)。但是設(shè)備的售價(jià)也相應(yīng)提高，增大了產(chǎn)品的單位成本。因此在選擇產(chǎn)品時(shí)，應(yīng)結(jié)合生產(chǎn)工藝要求，對(duì)相關(guān)的因素進(jìn)行綜合考慮。
2.為生產(chǎn)工藝服務(wù)的原則。先應(yīng)根據(jù)物料的性質(zhì)(粘度、起泡性、揮發(fā)性、含氣性等)選擇適宜的設(shè)備，以滿足生產(chǎn)工藝要求。
3.工藝范圍寬的原則。紫外臭氧清洗機(jī)的工藝范圍是指其適應(yīng)不同生產(chǎn)要求的能力。工藝范圍越寬，越能提高設(shè)備的利用率，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用，即利用同一設(shè)備可以清洗多種物料和多種規(guī)格。
以上三方面是選擇紫外臭氧清洗機(jī)時(shí)應(yīng)該遵循的原則。
